Samsung、ASML株の3％を6億3000万ドルで取得へ：ビジネスニュース

　ASMLが2012年8月27日に発表したところによると、韓国のSamsung Electronicsは、EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術と450mmウエハー技術の開発を促進するため、ASMLに3億4550万米ドルを投資するという。またSamsungは、ASMLの株式の3％を5億300万ユーロ（約6億2950万米ドル）で取得する予定だとしている。

　Samsungは、IntelとTSMCに続く形でASMLに投資することになった。Intelは2012年7月に、ASML株の約15％をおよそ31億米ドルで獲得すると発表している。2012年8月には、TSMCがASML株の5％を10億4000万米ドルで取得することを発表した。

　ASMLは2012年初め、EUVリソグラフィ技術と450mmウエハー技術の開発プロジェクトに参加を希望する半導体メーカーに向けて、ASML株のうち最大25％を売却する意向を発表していた。

　Samsung、Intel、TSMCの3社は、193nm液浸リソグラフィの代替技術として、半導体の微細化に貢献するとして期待されているEUVリソグラフィ技術の開発を支援している。また、3社は、ウエハー1枚当たりのチップ取得数を増やして利益を高めるべく、300mmウエハーから450mmウエハーへの移行にも積極的に取り組んでいる。

【翻訳：青山麻由子、編集：EE Times Japan】