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» 2012年10月15日 10時06分 UPDATE

EE Times Japan Weekly Top10:限界が見えてきた半導体の微細化

EE Times Japanで先週(2012年10月7日〜10月13日)に、多くのアクセスを集めた記事をランキング形式で紹介します。さまざまなトピックのニュース記事、解説記事が登場!!

[EE Times Japan]

「EE Times Japan Weekly Top10」バックナンバー

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 1位は「ムーアの法則はもう限界? リソグラフィ技術開発が追い付かず」、2位は「Ultrabook”脱却が追い風に? 超薄型ノートPC市場は成長路線へ」、3位は「―実践編(文献調査)― 論文や特許明細書の英語は“読まない”で“推測する”」がランクインしました。

 限界が見えてきた半導体の微細化。リソグラフィ技術開発の遅れにより、ムーアの法則を維持するのは非常に厳しい状況となっています。「IntelがASMLに41億ドルの資金投資」、「TSMC、ASMLの研究開発プログラムに14億ドルを投資」など、IntelやTSMCは、リソグラフィ装置を開発するASMLに多額の投資をすることを発表していますが、10nm世代のプロセス技術は、技術的にはもちろん、コスト的にもかなりの苦戦を強いられることは間違いありません。

 Ultrabookへの関心も高く、2位の他、5位にもUltrabook関連の記事がランクインしています。「タブレットの出荷数、2016年にはノートPCを上回る」とも予測されていますが、ノートPC市場が盛り返すには、価格が高いUltrabookにこだわらないことが、鍵になるのかもしれません。

 「CEATEC JAPAN 2012」の取材記事も、数本が引き続きランクインしています。CEATECのレビューは、特集サイトからどうぞ。

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