トップ10
» 2014年08月12日 14時40分 UPDATE

EE Times Japan Weekly Top10:復調の兆し見せるルネサス

EE Times Japanで先週(2014年8月2〜8日)に、多くのアクセスを集めた記事をランキング形式で紹介します。さまざまなトピックのニュース記事、解説記事が登場!!

[EE Times Japan]

「EE Times Japan Weekly Top10」バックナンバー

 1位は「もうからない製品はやめる! ――ルネサス、売上高25%相当の製品を終息へ」、2位は「スマートフォン市場を席巻する“Android”と“中国勢”」、3位は「IBMのEUV試験結果に疑問の声、インテルは「EUVなしで7nm実現を模索」」がランクインしました。

 今回は、1位と4位にルネサス エレクトロニクスの決算関連の記事が入っています。一時は「低迷」という声しか聞かれなかったルネサスですが、構造改革の成果か決算に関しては少しずつ明るいニュースが増えています。同社の問題点や構造改革の方針は、毎回、CEOの作田久男氏が歯に衣(きぬ)着せぬ表現で明確に語っています。「「ルネサスの社員は当事者意識が低い」――作田氏がルネサス変革プランを説明」「鶴岡工場の閉鎖を決定したルネサス作田会長、「まだ人・モノが多い」」「ルネサスの社員は真面目から本気に、経営陣は本気から“狂気”になって改革に取り組む」も、ぜひお読みください。

 IBMのEUV(極端紫外線)リソグラフィ技術にも反響がありました。半導体素子の微細化を促進する要素技術として有望視されているEUVリソグラフィ。手詰まり感を取り上げる記事と、技術の進歩を取り上げる記事とが、だいたい交互に出てくるパターンが続いています。それでも多くのファウンダリが期待している同技術には、今後も注目が集まりそうです。「10nmプロセスの実現に光、EUVリソグラフィ技術に進展」「EUVは本当に実用化できるのか?」「FinFET以降の半導体製造技術はどう進む? IBMの見解」などもオススメです。

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