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» 2015年10月23日 09時00分 UPDATE

今後2年間は緩やかな成長:半導体ウエハー出荷面積、2015年も過去最高へ

SEMIは、半導体向けシリコンウエハーの出荷面積予測を発表し、2015年の同出荷面積は、過去最高を記録した2014年を上回り100億4200万平方インチに達するとした。

[庄司智昭,EE Times Japan]

 SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)は2015年10月21日、半導体向けシリコンウエハーの出荷面積予測を発表し、2015年の同出荷面積は過去最高を記録した2014年を上回り100億4200万平方インチに達するとした。

 今回の予測によると、鏡面ウエハーおよびエピタキシャルウエハーの合計出荷面積は、2016年が101億7900万平方インチ、2017年が104億5900万平方インチとなっている。2015年に引き続き、2016年、2017年も過去最高基準が継続する見込みとしている。

 SEMIのCEOであるDenny McGuirk氏は、「2015年はシリコン出荷面積が記録を更新する年となるが、これは主に大口径ウエハーによるものである。今後2年間は、落ち着いた動きが予測されるが、緩やかな成長が続くだろう」とリリース上で述べている。

2015年半導体用シリコンウエハー出荷面積予測
  実績 予測
  2013年 2014年 2015年 2016年 2017年
シリコンウエハー面積
(百万平方インチ)
8834 9826 10042 10179 10459
年成長率 0% 11% 2% 1% 3%
太陽電池用シリコン、ノンポリッシュシリコンは含まない 出典:SEMI

 同統計に用いられている数値は、ウエハーメーカーからエンドユーザーに出荷されるバージンテストウエハー、エピウエハーを含む鏡面ウエハーの合計出荷面積を予測するもの。ノンポリッシュドウエハーと再生ウエハー、太陽電池用シリコンは含まれていない。

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