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» 2016年04月25日 08時30分 UPDATE

「VLSI技術シンポジウム 2016」プレビュー:0.03μm2のSRAMから最先端のIII-V族FinFETまで (1/5)

米国ハワイで2016年6月13〜16日に開催される「VLSI Symposia on VLSI Technology and Circuits(以下、VLSIシンポジウム)」は、最先端の半導体デバイス/回路技術が一堂に会する国際会議だ。VLSIシンポジウムを実行するVLSIシンポジウム委員会は4月20日、都内で記者説明会を開催し、同イベントの概要と注目論文を紹介した。

[村尾麻悠子,EE Times Japan]

 VLSIシンポジウムは、毎年6月に開催される。開催地は米国ハワイか京都で、西暦で偶数年はハワイ、奇数年は京都となっている(つまり2015年は京都で開催された)。VLSIシンポジウムは、半導体デバイス技術に焦点を当てる「VLSI技術シンポジウム(Symposium on VLSI Technology)」と、回路技術が中心となる「VLSI回路シンポジウム(Symposium on VLSI Circuits)」の2つで構成される。この2つが同時開催されるようになったのは1987年からで、ことしはVLSI回路シンポジウムの30周年に当たる。

 今回のVLSIシンポジウムには、「スマート社会に向けた変革の予兆」という全体のテーマが設けられている。これを軸に、IoT(モノのインターネット)、センサー、クラウド、車載エレクトロニクス向けの技術論文が発表される。

技術シンポジウム、論文の採択状況

 まず、VLSI技術シンポジウムにおける論文の採択状況が説明された。今回、投稿された論文数は214件で、採択数は85件。採択率は40%で、過去10年の実績と変わりない。

 国別では欧州がトップで49件、2位の米国が48件、日本は25件で3位である。VLSI技術シンポジウム委員長の稲葉聡氏によると、ここ数年の傾向として米国、韓国は横ばいで日本は減少、欧州と台湾は増加しているという。

mm160421_vlsi1.jpgmm160421_vlsi2.jpg 左=論文の投稿数と採択数/右=国別の投稿数(クリックで拡大) 出典:VLSIシンポジウム委員会

 ただ、日本からの論文は採択率が5割と高く、「優秀な論文が提出されている」と稲葉氏は説明する。

mm160421_vlsi3.jpgmm160421_vlsi4.jpg 左=国別の論文採択数/右=機関別の論文採択数。ベルギーIMECからの投稿が目立つ(クリックで拡大) 出典:VLSIシンポジウム委員会
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