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» 2016年05月12日 15時30分 UPDATE

台湾が5年連続で最大市場、45nm未満がけん引:半導体フォトマスク市場、2015年は33億米ドル

SEMIは、半導体フォトマスクの世界市場規模を発表した。2015年は33億米ドルとなった。2017年には34億米ドルの市場規模を予測する。

[馬本隆綱,EE Times Japan]

 SEMIは2016年5月9日(米国時間)、半導体フォトマスクの世界市場規模が、2015年に33億米ドルになったと発表した。2017年には34億米ドルの市場規模を予測する。

 SEMIによると、半導体フォトマスクの世界市場は、2014年に前年比3%増、2015年に同1%増と堅調に推移している。また、2016年には同2%、2017年には同3%増と成長が見込まれるという。

 半導体フォトマスク市場を加工プロセス別にみると、需要をけん引しているのは45nm未満の微細加工プロセスで、地域別ではアジア太平洋地域だという。特に台湾が5年連続で最大市場となった。今回の予測範囲である2017年までは台湾が最大市場を維持する見通しである。

 半導体ウエハープロセス材料市場の中で、半導体フォトマスクの販売構成比は13%となった。シリコンウエハーとガスに次ぐ規模である。しかし、2003年には18%を占めたこともあり、その構成比率は5ポイント下がっている。その要因の1つとしてSEMIは、内製マスクショップの重要性が高まっていることを挙げる。フォトマスク市場における内製マスクショップの比率は、2003年の31%に対して、2014年は構成比が53%、2015年は56%を占めるなど、半数を超えている。

 今回発表したデータは、このほど発行された「2015年版フォトマスクレポート」収録されている。北米、日本、欧州、台湾、韓国、中国、その他地域に分類した2015年の詳細なデータが提供される。また、2003年以降の実績と2017年までの予測データも、地域ごとにまとめられているという。

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