ニュース
» 2017年06月14日 10時30分 UPDATE

TNOのEUV照射・分析用設備:評価サービス受付開始、ウシオ製EUV光源搭載

オランダ応用科学研究機構(TNO)で、ウシオ電機製EUV光源を搭載した露光、分析ファシリティ「EBL2」が稼働、各種研究、評価サービスの受付を始めた。

[馬本隆綱,EE Times Japan]

光学部品やマスクペリクルセンサーなどが対象

 ウシオ電機は2017年6月、オランダ応用科学研究機構(TNO:The Netherlands Organization for Applied Scientific Research)で、ウシオ電機製EUV光源を搭載した露光、分析ファシリティ「EBL2」が稼働、各種研究、評価サービスの受付を始めたと発表した。

 EBL2は、2017年3月末に正式オープンした。EUV関連の企業や研究機関が手掛ける光学部品やマスクペリクルセンサーなどの研究、評価を支援するための設備である。サンプル品をハンドリングしながら、真空環境において光照射から評価まで一貫して、リアルタイムで計測することができる。

左はウシオ電機製のEUV光源を搭載した露光、分析ファシリティ「EBL2」の外観、右は開所式の様子 (クリックで拡大) 出典:ウシオ電機

 EBL2では、極めて高い輝度と出力が得られるEUV光源を用いることによって、6インチマスクまで対応できるなど、大面積の露光評価が可能である。このため、評価の期間を短縮することができるという。ウシオ電機では、高精度マスク検査用光源技術を進展させ、これからも最先端半導体製造プロセスに対応していく考えである。

Copyright© 2017 ITmedia, Inc. All Rights Reserved.

RSSフィード

All material on this site Copyright © 2005 - 2017 ITmedia Inc. All rights reserved.
This site contains articles under license from UBM Electronics, a division of United Business Media LLC.