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東芝、四日市新製造棟の一部クリーンルーム化投資を決定2018年末完了を予定

東芝は2018年2月20日、NAND型フラッシュメモリの生産拠点である四日市工場で建設中の第6製造棟における一部のクリーンルーム化工事と関連する設備投資(総額270億円)を計画通り実施し、2018年末に完了させると発表した。

» 2018年02月20日 16時15分 公開
[竹本達哉EE Times Japan]

2017年度設備投資額(発注ベース)6000億円は変わらず

 東芝は2018年2月20日、子会社である東芝メモリの生産拠点「四日市工場」(三重県四日市市)で建設中の第6製造棟における一部のクリーンルーム化工事と関連する設備投資、総額270億円分を計画通り実施し、2018年末に完了させると発表した。

 東芝は2017年8月3日付で、東芝メモリ四日市工場第6製造棟の建屋第2期分の建設を決定するなど、2018年末の建屋全体の完成を予定している(関連記事:東芝のメモリ新製造棟、SanDiskは投資せず)。今回の投資決定は、第2期分建屋に対する一部のクリーンルーム化工事とその関連設備投資。東芝は投資決定に至った理由として「エンタープライズ用サーバやデータセンター向けを中心に3次元フラッシュメモリの需要拡大が2018年以降も見込まれること」を挙げている。

東芝メモリ四日市工場第6製造棟の完成予想図 出典:東芝

 なお、今回の総額270億円分の投資は、2017年11月9日付で公表した2017年度(2018年3月期)の投資計画に含まれ、メモリの他、半導体、ストレージ事業を含むストレージ&デバイスソリューション事業としての2017年度設備投資額6000億円(発注ベース)に変更はないとする(関連記事:東芝、17年度メモリ投資を2000億円上乗せ)。また今回の投資に関する費用計上などは2018年度になるため、2017年度の業績見通しも変わらない(関連記事:東芝、メモリなき営業益はトントンだが過去最高益更新へ)。

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