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湯之上隆のナノフォーカス

「湯之上隆のナノフォーカス」の連載記事一覧です。

湯之上隆のナノフォーカス(6) ドライエッチング技術のイノベーション史(6):

ドライエッチング技術のイノベーション史をたどるシリーズの最終回は、アトミックレイヤーエッチング技術に焦点を当てる。さらに、今後の展望についても考察する。

【湯之上隆(微細加工研究所) 有門経敏(Tech Trend Analysis) , EE Times Japan】()
湯之上隆のナノフォーカス(5) ドライエッチング技術のイノベーション史(5):

今回は、最先端のドライエッチング技術として、マルチ・パターニングとHARC(High Aspect Ratio Contact)について解説する。

【湯之上隆(微細加工研究所) 有門経敏(Tech Trend Analysis) , EE Times Japan】()
湯之上隆のナノフォーカス(4) ドライエッチング技術のイノベーション史(4):

1980年代初旬、プラズマを用いたエッチング技術は、チャージングダメージという大きな壁に直面した。だが、日米によるすさまじい研究の結果、2000年までにほぼ全ての問題が解決された。本稿では、問題解決までの足跡をたどる。

【湯之上隆(微細加工研究所) 有門経敏(Tech Trend Analysis) , EE Times Japan】()
湯之上隆のナノフォーカス(3) ドライエッチング技術のイノベーション史(3):

発明者(インベンター)がイノベーターになれるとは限らない。また、必ずしもイノベーターが相応の利益を得られるとは限らない。ドライエッチング技術史をひもといてみると、まさに、そのパイオニアが報われていない実態が明らかになる。本稿では、まず、ドライエッチングに関する特許の“強弱”を判定する。その結果から、日電バリアンがイノベーターになれなかった原因を論じる。さらに、RIEを普及させたIBMが、なぜ、相応の利益を享受できないのかを考察する。

【湯之上隆(微細加工研究所)、有門経敏(Tech Trend Analysis) , EE Times Japan】()
湯之上隆のナノフォーカス(2) ドライエッチング技術のイノベーション史(2):

前回に引き続き、ドライエッチング技術におけるイノベーションの歴史を取り上げる。今回は、ドライエッチング技術の開発を語る上で欠かせない、重要な人物たちと、彼らが発明した技術を紹介する。

【湯之上隆(微細加工研究所) 有門経敏(Tech Trend Analysis) , EE Times Japan】()
湯之上隆のナノフォーカス(1) ドライエッチング技術のイノベーション史(1):

半導体製造において欠かせないドライエッチングプロセス。ドライエッチング技術は、どのような技術改良を重ねてきたのだろうか。本連載では6回にわたり、ドライエッチング技術で起こったイノベーションの歴史をたどる。

【湯之上隆(微細加工研究所) 有門経敏(Tech Trend Analysis) , EE Times Japan】()

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