ニュース 2015年8月11日 ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術（前編）（要約）：SEMICON West 2015リポート(2) [福田昭，EE Times Japan] 本稿では、リソグラフィ技術の将来を14nm世代から5nm世代まで展望するシンポジウムにおける、ニコンの講演内容を紹介する。同社は、10nm世代にArF液浸露光技術を適用する場合、2つの大きな課題があると指摘した。「EPE（Edge Placement Error）」と「コストの急増」だ。 続きを読む
