連載 2015年8月13日 ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術（後編）（要約）：SEMICON West 2015リポート(3) [福田昭，EE Times Japan] 今回は、10nm世代にArF液浸露光技術を適用する場合の2つ目の課題である「製造コストの急増」に焦点を当てる。ArF液浸露光技術とEUV（極端紫外線）露光のコストを比較すると、どんな結果になるのだろうか。 続きを読む
