連載 2015年8月26日 ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（2）〜開発の進ちょく状況（要約）：SEMICON West 2015リポート(5) [福田昭，EE Times Japan] 本稿では、EUVリソグラフィ開発の進ちょくをお伝えする。ASMLの開発用露光装置「NXE:3300B」は、1日当たりのウエハー処理枚数が1000枚を超え、以前に比べるとかなり進化した。また、7nm世代のロジック配線を解像できるようになっている。 続きを読む
