連載 2015年8月28日 ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（3）〜EUV露光装置の開発史（要約）：SEMICON West 2015リポート(6) [福田昭，EE Times Japan] 今回は、EUV（極端紫外線）露光装置の開発の歴史を振り返ってみたい。ASMLが顧客向けに初めてEUV露光装置を出荷したのは2006年のことである。その後の約10年で、光源の出力やスループットはどのくらい向上しているのだろうか。 続きを読む
