連載 2015年9月1日 ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表(4)〜次期主力機「NXE:3350B」の概要(要約):SEMICON West 2015リポート(7) [福田昭,EE Times Japan] 第4世代機「NXE:3350B」の受注状況16nmの解像を目標に開発0.6nmと低い線幅ばらつきを16nm幅の直線パターンで得る 続きを読む