連載 2015年9月15日 ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（4）〜「パーシャルフィールド」への対処（要約）：SEMICON West 2015リポート(11) [福田昭，EE Times Japan] 今回は、露光の際にシリコン・ウエハー周辺部で発生する現象「パーシャルフィールド」をもう少し掘り下げて解説しよう。このパーシャルフィールドについてキヤノンは、3種類に分けて対処しているという。 続きを読む
