連載 2015年9月18日 ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（5）〜インプリント装置の開発ロードマップ（要約）：SEMICON West 2015リポート(12) [福田昭，EE Times Japan] 今回は、ナノインプリント・リソグラフィ技術の開発ロードマップを紹介しよう。キヤノンは現在、インプリント装置の第1世代機の開発を終えたところで、今後5年間で第2および第3世代機の開発に取り組んでいく予定だ。インプリント装置のターゲットは、NAND型フラッシュメモリとDRAM、ロジックICである。 続きを読む
