生体に埋め込む脳血流量測定システム：福田昭のデバイス通信 IEDM 2015プレビュー（11）（1/2 ページ）

高品質なグラフェンをエピタキシャル成長

　2015年12月に開催予定の国際学会「IEDM 2015」から、カンファレンス3日目（最終日）である12月9日（水）の午前に予定されている一般講演セッションを解説する。9日午前の時間帯には、セッション25からセッション31までの7本のセッションが同時並行に進む。

　前回は、セッション25とセッション26の講演を説明した。今回はセッション27（ナノデバイス技術）とセッション28（モデリングとシミュレーション）、セッション29（センサー、MEMSとBioMEMS）の講演をご紹介しよう。

12月9日午前の一般講演セッション一覧（クリックで拡大）

　セッション27（ナノデバイス技術）のサブテーマは「層状2次元材料とデバイス」である。このセッションはフォーカスセッションでもあり、全ての講演は招待講演となっている。

　九州大学とPRESTO（Precursory Research for Embryonic Science and Technology）は、高品質なグラフェンをエピタキシャルCVD成長技術で実現する試みの現状を共同で報告する（講演番号27.2）。サファイア基板に堆積した（111）配向のCu（銅）薄膜を下地に使い、グラフェンのヘキサゴナル格子の配向を制御する。グラフェン以外の2次元材料に適用した結果も報告する予定だ。

　EPFL（Ecole polytechnique federale de Lausanne：スイス連邦工科大学ローザンヌ校）は、2次元材料の二硫化モリブデン（MoS₂）を活用したトランジスタ技術を解説する（講演番号27.4）。同じ2次元材料のグラフェンをベースとしてトランジスタ構造を作製する。MoS₂はエネルギー・バンドギャップが存在するので、電流が簡単に飽和する他、電圧の利得が生じる。バンドギャップのないグラフェンと比べ、トランジスタ特性を得やすい。

　Seoul National UniversityとSamsung-Electro Mechanicsの共同研究チームは、ロール・ツー・ロール方式でグラフェンなどの2次元材料の薄膜を製造し、パターン加工する技術を議論する（講演番号27.7）。大面積のシート状グラフェンを作製して適切な基板に転写し、パターンを加工する生産技術が要求されている。しかし現状の候補技術には一長一短があり、量産技術への適用には問題を抱えるとする。

セッション27の講演一覧（クリックで拡大）