0.03μm2のSRAMから最先端のIII-V族FinFETまで：「VLSI技術シンポジウム 2016」プレビュー（1/5 ページ）

　VLSIシンポジウムは、毎年6月に開催される。開催地は米国ハワイか京都で、西暦で偶数年はハワイ、奇数年は京都となっている（つまり2015年は京都で開催された）。VLSIシンポジウムは、半導体デバイス技術に焦点を当てる「VLSI技術シンポジウム（Symposium on VLSI Technology）」と、回路技術が中心となる「VLSI回路シンポジウム（Symposium on VLSI Circuits）」の2つで構成される。この2つが同時開催されるようになったのは1987年からで、ことしはVLSI回路シンポジウムの30周年に当たる。

　今回のVLSIシンポジウムには、「スマート社会に向けた変革の予兆」という全体のテーマが設けられている。これを軸に、IoT（モノのインターネット）、センサー、クラウド、車載エレクトロニクス向けの技術論文が発表される。

技術シンポジウム、論文の採択状況

　まず、VLSI技術シンポジウムにおける論文の採択状況が説明された。今回、投稿された論文数は214件で、採択数は85件。採択率は40％で、過去10年の実績と変わりない。

　国別では欧州がトップで49件、2位の米国が48件、日本は25件で3位である。VLSI技術シンポジウム委員長の稲葉聡氏によると、ここ数年の傾向として米国、韓国は横ばいで日本は減少、欧州と台湾は増加しているという。

左＝論文の投稿数と採択数／右＝国別の投稿数（クリックで拡大） 出典：VLSIシンポジウム委員会

　ただ、日本からの論文は採択率が5割と高く、「優秀な論文が提出されている」と稲葉氏は説明する。

左＝国別の論文採択数／右＝機関別の論文採択数。ベルギーIMECからの投稿が目立つ（クリックで拡大） 出典：VLSIシンポジウム委員会