半導体フォトマスク市場、2015年は33億米ドル：台湾が5年連続で最大市場、45nm未満がけん引

　SEMIは2016年5月9日（米国時間）、半導体フォトマスクの世界市場規模が、2015年に33億米ドルになったと発表した。2017年には34億米ドルの市場規模を予測する。

　SEMIによると、半導体フォトマスクの世界市場は、2014年に前年比3％増、2015年に同1％増と堅調に推移している。また、2016年には同2％、2017年には同3％増と成長が見込まれるという。

　半導体フォトマスク市場を加工プロセス別にみると、需要をけん引しているのは45nm未満の微細加工プロセスで、地域別ではアジア太平洋地域だという。特に台湾が5年連続で最大市場となった。今回の予測範囲である2017年までは台湾が最大市場を維持する見通しである。

　半導体ウエハープロセス材料市場の中で、半導体フォトマスクの販売構成比は13％となった。シリコンウエハーとガスに次ぐ規模である。しかし、2003年には18％を占めたこともあり、その構成比率は5ポイント下がっている。その要因の1つとしてSEMIは、内製マスクショップの重要性が高まっていることを挙げる。フォトマスク市場における内製マスクショップの比率は、2003年の31％に対して、2014年は構成比が53％、2015年は56％を占めるなど、半数を超えている。

　今回発表したデータは、このほど発行された「2015年版フォトマスクレポート」収録されている。北米、日本、欧州、台湾、韓国、中国、その他地域に分類した2015年の詳細なデータが提供される。また、2003年以降の実績と2017年までの予測データも、地域ごとにまとめられているという。