電気通信と光通信の境界：福田昭のデバイス通信（142） imecが語る最新のシリコンフォトニクス技術（2）（1/3 ページ）

光ファイバー伝送がデータセンターの超高速通信を担う

　半導体デバイス技術に関する国際会議「IEDM」では、カンファレンスの前々日に「チュートリアル（Tutorial）」と呼ぶ技術セミナーを開催している。2017年12月に開催されたIEDMでは、6件のチュートリアルが開催された。

　その中から、シリコンフォトニクスに関する講座「Silicon Photonics for Next-Generation Optical Interconnects（次世代光接続に向けたシリコンフォトニクス）」が興味深かったので、その概要を前回からシリーズでお届けしている。講演者は、ベルギーの研究開発機関imecのJoris Van Campenhout氏である。

　なお講演の内容だけでは説明が不十分なところがあるので、本シリーズでは読者の理解を助けるために、講演の内容を適宜、補足している。あらかじめご了承されたい。

　本シリーズの第1回となる前回では、講演のアウトラインを説明するとともに、講演内容を理解するための基礎事項を補足した。今回は、データセンターにおける光通信と電気通信の進化と境界について説明する。

　データセンターにおける通信需要は指数関数的に増大している。このため、データセンター間のネットワーク帯域、データセンター内部のネットワーク帯域、データセンター内部に配置したサーバ間のネットワーク帯域はいずれも、段階的に増強していくことが求められる。

　例えばデータセンターのネットワーク通信速度は100Gビット/秒（bps）から400Gbpsへと移行しつつある。将来は1.6Tbpsへと増やす。そしてデータセンターのスイッチ速度は3.2Tbpsから6.4Tbpsへと拡充しつつある。さらには、12.8Tbpsへと拡大する。サーバ間の通信速度は25Gbpsから50Gbpsへと増加しつつある。近い将来には、100Gbpsへと増えるだろう。

データセンターにおけるネットワーク帯域の変化。出典：imec（クリックで拡大）