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» 2019年08月28日 10時30分 公開

バックエンドリソグラフィに対応:EVG、新しいマスクレス露光技術を開発

EV Group(EVG)は、新たなマスクレス露光(MLE)技術を発表した。先端パッケージやMEMS、高密度プリント配線板などバックエンドリソグラフィ用途に向ける。

[馬本隆綱,EE Times Japan]

柔軟性と拡張性を向上、所有コストを低減

 EV Group(EVG)は2019年8月、新たなマスクレス露光(MLE)技術を発表した。先端パッケージやMEMS、高密度プリント配線板などバックエンドリソグラフィ用途に向ける。

 先端パッケージの製造プロセスに用いられる露光装置への要求は、より高度化する。ラインアンドスペースの密集度が高いインターポーザー基板などでは、2μmかそれ以下の解像度が求められる。樹脂基板への対応なども必要となる。

 新たに開発したMLE(maskless exposure)技術は、2μm以下のラインアンドスペースに対応することができ、つなぎ目のないマスクレス露光で、高いスループットを実現。マスクやレチクル関連のコスト低減を可能にした。

MLE技術のイメージ 出典:EVG

 パネルサイズを含め、あらゆるウエハーサイズに対応する。クラスタ化された書き込みヘッドと多波長高出力UV光源の組み合わせにより、市販されている全てのレジストを用いることができるという。装置構成を調整すれば、研究開発から量産ラインまで、迅速かつ柔軟に対応することが可能な設計となっている。

MLE技術を用いたパターニング例 出典:EVG

 オーストリアのEVG本社にはMLE技術を搭載したデモ機を展示。近く、MLE技術搭載の新製品が、正式に発表される予定である。

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